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濺鍍是真空濺射鍍膜的簡稱，屬于物理鍍膜工藝，在真空的環(huán)境中進行鍍膜，種類有：真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子外延以及PLD激光濺射沉積等多種工藝。需要鍍膜的叫做基片，鍍的材料稱作靶材，基片和靶材都在真空器皿內。蒸發(fā)鍍膜指的是將靶材加熱使得其表面組成成分以原子或離子形式蒸發(fā)出來，沉積在基片表面。濺射鍍膜是利用電子或激光轟擊靶材，是表面成分以原子團或離子形式被濺射出來，沉積在基片表面，形成薄膜。

關于蒸鍍和濺鍍的區(qū)別以及陽極氧化的相關基本概念，三川宏塑料離心泵廠家川田環(huán)?？萍夹【嶮IKAWA就為您解析到這里，明天咱們來看看常見的電鍍技術有哪些？