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三川宏廠家為您解析關(guān)于鍍層孔隙率的測(cè)量方法

作者：川田環(huán)保科技編輯：三川宏售后來(lái)源：發(fā)布日期： 2021.05.16

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昨天，三川宏廠家嘉善川田環(huán)保科技有限公司小編MIKAWA為您解析了關(guān)于鍍層檢測(cè)之陽(yáng)極溶解法的一些內(nèi)容，下面咱們一起來(lái)看看孔隙率的測(cè)量方法。

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電鍍涂層的孔隙指的是電鍍涂層的表面直通基材的小孔道，孔的大小和數(shù)量會(huì)影響到鍍層的耐腐蝕、耐磨等一些性能，下面三川宏廠家小編MIKAWA就為您講一講采用Dubpernell鍍銅的方法來(lái)測(cè)量鍍層孔隙率。

Dubpernell鍍銅法主要是用于鎳封顆粒數(shù)量的測(cè)量，采因其在低電流密度區(qū)或低電壓的時(shí)候從硫酸鹽溶液中的電鍍銅只沉積在不連續(xù)鍍鉻所暴露的鎳層上，利用顯微鏡就可以直觀地測(cè)量孔隙的數(shù)量。

該方法需在電鍍加工工序過(guò)后立馬實(shí)施，如果延遲，工件在測(cè)試前需進(jìn)行脫脂處理，且不可使用電解液處理。沉銅的時(shí)候，工件作為陰極，在五水硫酸銅200g/l和硫酸20g/l溶液中進(jìn)行電鍍，槽液溫度在20攝氏度左右，以30A/㎡的電流密度施鍍1分鐘。

如果工件是鍍鉻后幾天才測(cè)量的，肚痛錢(qián)工件因浸入65攝氏度含有10-20g/l硝酸溶液中浸泡4分鐘左右，這樣比較容易孔隙的顯露。

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