三川宏電鍍過濾泵廠家——川田環(huán)?？萍?，年前為您分享了一些關(guān)于表面處理熱加工的一些方法，化學(xué)處理法以及電鍍等電化學(xué)處理法的一些表面處理工藝。今天，我們?cè)賮砜纯凑婵斟兊囊恍┫嚓P(guān)內(nèi)容。

PVD——物理氣相沉積，是真空表面處理方法中的一種。在真空條件下，將金屬氣化為原子或者分子，或者使得金屬離子化，直接沉積到工件表面，從而形成覆鍍層。此類方法稱為物理氣相沉積，其沉積粒子源于非化學(xué)因素，例如蒸發(fā)濺射鍍、離子鍍等。

離子注入，對(duì)于三川宏小編來講，也是一個(gè)比較新的概念。它是在高壓狀態(tài)下，將不同離子注入工件表面，使其表面改性，如：注硼工藝。

CVD——化學(xué)氣相沉積，有別于物理氣相沉積，在低壓或者高壓狀態(tài)下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因?yàn)榛瘜W(xué)反應(yīng)生成固態(tài)沉積覆鍍層的工藝，也叫化學(xué)氣相鍍。如：氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

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